兵器装备集团成功研制磁控溅射镀膜机填补国内空白

文章来源:中国兵器装备集团公司  发布时间:2008-11-07

  近日,中国兵器装备集团公司成功研制出国内首套磁控溅射镀膜机,填补了该项目国内空白,实现了高精度溅射镀膜机的国产化,满足我国当前大批量、稳定镀制多种高品质精密光学薄膜的需求,为我国今后一段时期的镀膜机研发提供了方向。该机型由集团公司自主研制生产,具有完全自主知识产权,其技术水平处于国内领先,创造了国内镀膜机研制的4个第一次:第一次采用磁控溅射和电子蒸镀两套镀膜系统,将蒸镀技术与溅射技术在一台机器上实现成功覆盖,在国内首次具备了蒸镀和溅射两种功能为一体的两用机型,减少了设备的采购成本和能源消耗;第一次在真空室的设计上采用双真空室,有利于提高工作效率、保护靶材和节能降耗;第一次运用了分子泵技术,使极限真空实现一次性达标;在控制部分第一次采用工控机控制,提高了设备的自动化程度,避免了人为因素造成的失误。

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